| Anhydride (13) |  |
| Éléments chimiques (16) | |
| Éther (10) | |
| Hydrate (10) | |
| Hydroxyde (15) | |
| Hydroxyle (6) | |
| Isomère (12) | |
| Méthyl (14) | |
| Phényl (34) | |
| Polymères (11) | |
| Sels chimiques (642) | |
| Solvant (71) | |
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divers oxydants et radicaux libres (hydroxyles et nitrés) et d'autres polluants dégradent ou modifient ces molécules
Le principal puits à CH 4 est le radical hydroxyle OH. contenu dans l'atmosphère,
#et de H 2 O. La teneur en radical hydroxyle est influencée donc par la concentration atmosphérique en CH 4 mais aussi par celle de ses produits, dont CO.
le méthane, par exemple, réagit avec les radicaux hydroxyle naturellement présents dans l'atmosphère pour créer du CO 2;
le méthane, par exemple, réagit avec les radicaux hydroxyle naturellement présents dans l'atmosphère pour créer du CO 2;
D'autres facteurs comme la température (rayon infrarouge), l'ensoleillement (rayon ultraviolet) et les oxydants atmosphériques tels que l'ozone (O 3), les nitrites (NO 2) et les radicaux hydroxyles (OH#)ont un effet sur l'absorption et l'adsorption
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